红外热成像进入8微米像元时代,睿创微电子全链路革新保证高清画质
2026年9月9日深圳光博会上,睿创微电子发布8微米探测器技术,通过全链路系统性革新,实现640系列、1280系列和1920系列高清画质。非制冷红外探测器的主流像元尺寸为12μm,并加速向更小像元演进,更小像元技术会导致画质下降。睿创微纳自2021年发布全球首款8μm非制冷红外探测器芯片以来,持续提升8μm产品的图像画质。

8微米像元技术产品优势有哪些?
答案是Size尺寸、Weight重量、Cost成本的全面领先。
更小尺寸:
同分辨率下:芯片面积更小→探测器更小→模组更小
同尺寸下:像素数量倍增→空间分辨率显著提升
更轻重量:
芯片更小+镜头更小+PCB更小→模组整体更轻
更优成本:
更小像元尺寸→芯片面积大幅缩减→单颗芯片成本下探
8微米小像元技术,如何保证高清成像
像元间距从12μm微缩至8μm,绝非简单的几何等比例缩放。像元面积大幅缩小至原来的44%,带来了严峻的行业共性难题:光敏面积减小导致探测性能劣化;电路走线极限密集引发信号串扰;微结构热分布不均影响成像稳定性等。
睿创微电子没有依赖单一技术的修补,而是通过传感器、热敏材料、读出电路、封装及制造工艺的全链路系统性创新,攻克了像元微缩带来的物理瓶颈,成功实现从12μm到8μm的代际技术跨越。

在传感器方面,首先是微纳工艺突破:依托睿创微纳自建的高精度MEMS流片平台,突破了亚微米级微桥关键结构的制造工艺。其次,热学性能极限压榨:依托亚微米级高精度工艺,成功将微桥支撑结构尺寸缩小,获得了高单位面积热灵敏度的传感器结构。相较于12μm产品,单位面积热灵敏度提升一倍,有效弥补了光敏面积缩减带来的性能损失,是保障 8μm 产品高清画质的核心基础。

热敏材料,睿创微电子持续改善热敏薄膜生长工艺,优化了材料的噪声特性与电阻温度系数(TCR),从源头提升了图像信噪比。

在读出电路(ROIC)方面,针对8μm像元开发了全系列的高集成读出电路(ROIC),产品矩阵覆盖640×512、1280×1024、1920×1080等大面阵规格,为不同应用场景提供清晰的高清红外图像。极低滚动噪声:优化了逐行读出机制,保持极低的噪声与串扰水平,其中滚动噪声降低50%,画面更加纯净细腻。

封装技术:晶圆级封装(WLP)、小型陶瓷封装、SWLP封装(高易用性)等多种不同封装方案,满足不同场景下对画质、集成性等方面的需求。

工艺一致性与可量产性,睿创微电子依托自主可控的流片平台与前后道工艺协同优化机制,全面掌握完整的8μm传感器制造工艺,保障了探测器最终良率的大幅提升与大规模量产的稳定性。

红外热成像领域进入8微米像元时代,越来越多的企业发布8微米像元产品。红外热成像行业龙头企业,睿创微电子8微米系列产品矩阵已覆盖640、1280、1920等多个面阵规格,引领行业技术迭代。
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